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藍寶石用氧化鋁拋光粉 Alumina polishing powde
品名：r氧化鋁拋光粉, Alumina polishing powde.氧化鋁拋光粉采用高純氧化鋁作為原料, 在嚴格粒度分布控制下, ＊小粒度能夠達到0.3um。晶體呈平板狀、 粒度分布范圍窄、不易產(chǎn)生劃痕、磨削力強。用途：1) 單晶硅片的研磨、拋光。2) 水晶鏡片的研磨拋光。3) 手機外殼等鋁合金材料及不銹鋼材料的拋光。4) 不銹鋼餐具及其它裝飾材料的拋光。5) 等離子噴涂6)光學玻璃, 激光晶體, 光學晶體, 光學塑料, 半導體, 金屬合金, 陶瓷, 等。7) 塑膠拋光8）大理石拋光、石材拋光9）汽車漆面拋光10)石英晶體研磨拋光，晶振研磨拋光 -
平板狀氧化鋁拋光粉和拋光液說明書
無錫中晶平板狀氧化鋁拋光粉和拋光液使用說明書無錫中晶材料科技有限公司，氧化鋁拋光液是以微米或納米級氧化鋁為磨料，再配以濕潤劑、表面活性劑、分散穩(wěn)定劑和調(diào)整劑生產(chǎn)的一種研磨拋光材料。適用于各種精密產(chǎn)品及金相切片、手機殼等研磨拋光。公司開發(fā)和經(jīng)營的研磨拋光材料系列均為優(yōu)選的磨料，先進的制備工藝保證了高質(zhì)量的顆粒呈等積形狀；嚴格的分級工藝保證了實際尺寸與名義尺寸相一致的高比例顆粒，其粒度組成都高于國家標準的粒度范圍要求。所有這些研磨拋光材料，粒度、品種齊全，以滿足用戶各種要求。通過工藝、設(shè)備、流程控制，保證了高純納米氧化鋁拋光液具有以下優(yōu)越性能：1、晶相穩(wěn)定、硬度高、顆粒小且分布均勻，懸浮穩(wěn)定性好；2、磨削力強、拋光快、光度亮、鏡面效果好；3、研磨效率高，拋光效果好，研磨效率遠遠高于二氧化硅等軟質(zhì)磨料，表面光潔度優(yōu)于白剛玉的拋光效果，切削力強、出光快、能拋出均勻而明亮的興澤。4、適用范圍廣，拋光后容易清洗。 氧化鋁拋光液和研磨材料適用于金相、巖相、復合材料的高精度研磨及拋光等表面處理：1、手機殼，陶瓷，玻璃、水晶、光學玻璃等振動拋光（機器拋光、滾動拋光）、手動拋光（研磨拋光）等。人造寶石、天然寶石、鋯石、玉石、翡翠、瑪瑙。2、單晶硅片等半導體、壓電晶學、光學晶體、光學玻璃、光學塑料、計算機硬盤、光學鏡頭、單芯光纖連接器、微晶玻璃基板、3、鋁材、銅材、不銹鋼等金屬表面研磨拋光。4、汽車油漆打磨拋光，樹脂拋光等，油漆表面、亞克力、非鐵金屬的表面拋光。5、 劃痕去除：寶石、首飾、微晶玻璃、鋁板、鋼板、塑料殼、壓克力等劃傷劃痕；汽車，船舶等表面油漆出現(xiàn)的輕微劃痕等只要涂上少許拋光液，用海綿布或者拋光墊等在其表面來回拋磨，很快就光亮如新，無一點擦痕。推薦配套使用：本公司金相拋光潤滑冷卻液，樣品的拋光效果則更加＊＊。使用與用量：推薦用量為1～20％，使用者應根據(jù)不同體系經(jīng)過試驗決定＊佳添加量?！?以防少許沉淀，建議使用前先搖勻。◆ 使用時，以不同濃度并據(jù)不同行業(yè)的需要可用過濾清潔水加以稀釋，調(diào)制不同濃度。儲 存：本品需在0℃以上儲存，防止結(jié)塊，在0℃以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。包 裝：產(chǎn)品包裝有：200毫升/瓶和500毫升/瓶。1 L/瓶、5 L/桶、20 L/桶 -
化學機械拋光
這兩個概念主要出現(xiàn)在半導體加工過程中，*初的半導體基片（襯底片）拋光沿用機械拋光、例如氧化鎂、氧化鋯拋光等，但是得到的晶片表面損傷是及其嚴重的。直到60年代末，一種新的拋光技術(shù)——化學機械拋光技術(shù)（CMP Chemical Mechanical Polishing ）取代了舊的方法。CMP技術(shù)綜合了化學和機械拋光的優(yōu)勢：單純的化學拋光，拋光速率較快，表面光潔度高，損傷低，**性好，但表面平整度和平行度差，拋光后表面一致性差；單純的機械拋光表面一致性好，表面平整度高，但表面光潔度差，損傷層深?；瘜W機械拋光可以獲得較為**的表面，又可以得到較高的拋光速率，得到的平整度比其他方法高兩個數(shù)量級，是目前能夠?qū)崿F(xiàn)全局平面化的**有效方法。制作步驟依據(jù)機械加工原理、半導體材料工程學、物力化學多相反應多相催化理論、表面工程學、半導體化學基礎(chǔ)理論等，對硅單晶片化學機械拋光（CMP）機理、動力學控制過程和影響因素研究標明，化學機械拋光是一個復雜的多相反應，它存在著兩個動力學過程：（1）拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進行氧化還原的動力學過程。這是化學反應的主體。（2）拋光表面反應物脫離硅單晶表面，即解吸過程使未反應的硅單晶重新裸露出來的動力學過程。它是控制拋光速率的另一個重要過程。硅片的化學機械拋光過程是以化學反應為主的機械拋光過程，要獲得質(zhì)量好的拋光片，必須使拋光過程中的化學腐蝕作用與機械磨削作用達到一種平衡。如果化學腐蝕作用大于機械拋光作用，則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機械磨削作用大于化學腐蝕作用，則表面產(chǎn)生高損傷層。 -
氧化鋁研磨的性能及基本要求
顆粒度均勻一致，在允許的范圍之內(nèi)。純度高，不含有可能引起劃痕的雜質(zhì)。有良好的分散性，以保證加工過程的穩(wěn)定和**。化學穩(wěn)定性好，不致腐蝕工件。粉體晶型機構(gòu)穩(wěn)定，耐磨性及流動性好。粒度大的拋光粉，磨削力越大，越適合加工硬度高的材料，反之粒度小的拋光粉適合加工偏軟類的材料。所以拋光粉都有一個粒度分布范圍，平均粒徑(中心粒徑D50)的大小只決定拋光速度的快慢，而**粒徑Dmax決定拋光精度的高低。因此要達到高精度的表面拋光要求，必須控制拋光粉的粒度分布比例和范圍。
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藍寶石用氧化鋁拋光粉 Alumina polishing powde
品名：r氧化鋁拋光粉, Alumina polishing powde.氧化鋁拋光粉采用高純氧化鋁作為原料, 在嚴格粒度分布控制下, ＊小粒度能夠達到0.3um。晶體呈平板狀、 粒度分布范圍窄、不易產(chǎn)生劃痕、磨削力強。用途：1) 單晶硅片的研磨、拋光。2) 水晶鏡片的研磨拋光。3) 手機外殼等鋁合金材料及不銹鋼材料的拋光。4) 不銹鋼餐具及其它裝飾材料的拋光。5) 等離子噴涂6)光學玻璃, 激光晶體, 光學晶體, 光學塑料, 半導體, 金屬合金, 陶瓷, 等。7) 塑膠拋光8）大理石拋光、石材拋光9）汽車漆面拋光10)石英晶體研磨拋光，晶振研磨拋光 -
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平板狀氧化鋁拋光粉和拋光液說明書
無錫中晶平板狀氧化鋁拋光粉和拋光液使用說明書無錫中晶材料科技有限公司，氧化鋁拋光液是以微米或納米級氧化鋁為磨料，再配以濕潤劑、表面活性劑、分散穩(wěn)定劑和調(diào)整劑生產(chǎn)的一種研磨拋光材料。適用于各種精密產(chǎn)品及金相切片、手機殼等研磨拋光。公司開發(fā)和經(jīng)營的研磨拋光材料系列均為優(yōu)選的磨料，先進的制備工藝保證了高質(zhì)量的顆粒呈等積形狀；嚴格的分級工藝保證了實際尺寸與名義尺寸相一致的高比例顆粒，其粒度組成都高于國家標準的粒度范圍要求。所有這些研磨拋光材料，粒度、品種齊全，以滿足用戶各種要求。通過工藝、設(shè)備、流程控制，保證了高純納米氧化鋁拋光液具有以下優(yōu)越性能：1、晶相穩(wěn)定、硬度高、顆粒小且分布均勻，懸浮穩(wěn)定性好；2、磨削力強、拋光快、光度亮、鏡面效果好；3、研磨效率高，拋光效果好，研磨效率遠遠高于二氧化硅等軟質(zhì)磨料，表面光潔度優(yōu)于白剛玉的拋光效果，切削力強、出光快、能拋出均勻而明亮的興澤。4、適用范圍廣，拋光后容易清洗。 氧化鋁拋光液和研磨材料適用于金相、巖相、復合材料的高精度研磨及拋光等表面處理：1、手機殼，陶瓷，玻璃、水晶、光學玻璃等振動拋光（機器拋光、滾動拋光）、手動拋光（研磨拋光）等。人造寶石、天然寶石、鋯石、玉石、翡翠、瑪瑙。2、單晶硅片等半導體、壓電晶學、光學晶體、光學玻璃、光學塑料、計算機硬盤、光學鏡頭、單芯光纖連接器、微晶玻璃基板、3、鋁材、銅材、不銹鋼等金屬表面研磨拋光。4、汽車油漆打磨拋光，樹脂拋光等，油漆表面、亞克力、非鐵金屬的表面拋光。5、 劃痕去除：寶石、首飾、微晶玻璃、鋁板、鋼板、塑料殼、壓克力等劃傷劃痕；汽車，船舶等表面油漆出現(xiàn)的輕微劃痕等只要涂上少許拋光液，用海綿布或者拋光墊等在其表面來回拋磨，很快就光亮如新，無一點擦痕。推薦配套使用：本公司金相拋光潤滑冷卻液，樣品的拋光效果則更加＊＊。使用與用量：推薦用量為1～20％，使用者應根據(jù)不同體系經(jīng)過試驗決定＊佳添加量。◆ 以防少許沉淀，建議使用前先搖勻。◆ 使用時，以不同濃度并據(jù)不同行業(yè)的需要可用過濾清潔水加以稀釋，調(diào)制不同濃度。儲 存：本品需在0℃以上儲存，防止結(jié)塊，在0℃以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。包 裝：產(chǎn)品包裝有：200毫升/瓶和500毫升/瓶。1 L/瓶、5 L/桶、20 L/桶 -
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氧化鋁研磨的性能及基本要求
顆粒度均勻一致，在允許的范圍之內(nèi)。純度高，不含有可能引起劃痕的雜質(zhì)。有良好的分散性，以保證加工過程的穩(wěn)定和**?；瘜W穩(wěn)定性好，不致腐蝕工件。粉體晶型機構(gòu)穩(wěn)定，耐磨性及流動性好。粒度大的拋光粉，磨削力越大，越適合加工硬度高的材料，反之粒度小的拋光粉適合加工偏軟類的材料。所以拋光粉都有一個粒度分布范圍，平均粒徑(中心粒徑D50)的大小只決定拋光速度的快慢，而**粒徑Dmax決定拋光精度的高低。因此要達到高精度的表面拋光要求，必須控制拋光粉的粒度分布比例和范圍。 -
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選擇品質(zhì)好的氧化鋁研磨拋光粉的技巧
要選好優(yōu)質(zhì)的氧化鋁研磨拋光粉，首先我們要了解拋光粉的是組成成份，氧化鋁拋光粉的組成成份通常是、氧化鋯、氧化鉻、、氧化鋁、氧化硅，而各種分量的不同，對拋光粉性能的影響也不同.1、氧化鋁粉體的粒度大?。貉趸X粉體顆粒的大小及均勻度決定了拋光速度和精度，過篩的篩網(wǎng)目數(shù)能掌握粉體相對的粒度的值，平均粒度決定了拋光粉顆粒大小的整體水平。2、氧化鋁粉體莫氏硬度：硬度相對大的粉體具有較快的切削效果，同時添加一些助磨劑等等也同樣能提高切削效果；不同的應用領(lǐng)域會有很大出入，包括自身加工工藝參數(shù)。3、粉體懸浮性：好的氧化鋁拋光粉要有較好的懸浮性，粉體的形狀和粒度大小對懸浮性能具有一定的影響，片狀及粒度細些的拋光粉的懸浮性相對的要好一些，但不是**的。氧化鋁拋光粉懸浮性能的提高也可通過加懸浮液（劑）來改善。 4、粉體的晶型：粉體的晶型是團聚在一起的單晶顆粒，決定了粉體的切削性、耐磨性及流動性。粉體團聚在一起的單晶顆粒在拋光過程中分離（破碎），使其切削性、耐磨性逐漸下降，片狀規(guī)則的六邊形晶型顆粒具有良好的切削性、耐磨性和流動性。小結(jié)，商家選擇優(yōu)質(zhì)氧化鋁拋光粉時，首先要看供應商氧化鋁拋光粉的參數(shù)指標，是否具有以上四點，其次還要看廠商的的信譽度，廠商的實力等。 -
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平板狀氧化鋁各種粒徑標準范圍
平板狀氧化鋁【應用領(lǐng)域】金屬材料拋光，如鋁合金，不銹鋼等； 光學材料拋光，如藍寶石、玻璃、眼鏡片等； 半導體材料拋光，如硅，鍺、砷等； 砂紙用砂?！井a(chǎn)品特色】純度高，達99%以上； 形狀為片狀，增大了摩擦力，導致磨削力強； 平板狀不易產(chǎn)生劃痕，可提高加工良率； 相對于其它氧化鋁粉，用量少，性價比高。【粒度規(guī)格】型號規(guī)格粒度分布(μm)D0D3D50D94TWA50<95.063.0±3.542.5±2.526.0±2.0TWA 45<87.557.0±3.236.0±2.323.5±1.8TWA 40<80.445.0±2.831.0±2.020.5±1.5TWA 35<64.037.6±2.225.5±1.717.0±1.5TWA 30<50.831.2±2.121.5±1.515.5±1.3TWA 25<40.326.3±1.917.4±1.311.4±1.1TWA20<32.022.5±1.614.5±1.39.0±0.8TWA 15<25.416.0±1.210.5±0.86.7±0.5TWA 12<20.212.8±1.08.4±0.65.6±0.5TWA 9<16.09.7±0.86.4±0.64.2±0.4TWA 5<12.77.2±0.64.7±0.53.4±0.4TWA 3<10.15.3±0.43.1±0.42.7±0.4【物理指標】外觀顆粒形狀晶相比重熔點莫氏硬度白色平板狀α3.95 g/cm32020℃9.0【化學指標】Al2O3SiO2Fe2O3Na2O＞99.00＜0.2＜0.1＜0.8【包裝】標準包裝：20 kg /箱。也可根據(jù)客戶要求進行包裝。返回列表
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