菱形狀a氧化鋁研磨微粉 我公司生產(chǎn)FWA系列拋光粉是做金相拋光的**材料，同時還適合不銹鋼鏡面拋光，鈦金屬拋光，鑄鐵拋光，鋁材鏡面拋光，大理石石材鏡面拋光，油漆拋光，樹脂拋光，PCB電路板拋光，玻璃拋光，光學(xué)玻璃，眼鏡鏡片拋光，樹脂鏡片拋光，藍(lán)寶石拋光，LED拋光，鍺拋光，鋅拋光，拋光快，光亮度好，無劃傷。 氧化鋁拋光粉用于藍(lán)寶石拋光比氧化硅的拋光速率快3倍左右，每小時能拋7-10um。 概要與特點(diǎn)：無錫中晶材料科技有限公司為迎合市場需求，采用獨(dú)特的生產(chǎn)工藝，利用國內(nèi)外先進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備，通過嚴(yán)謹(jǐn)?shù)纳a(chǎn)流程制作而成的納米氧化鋁拋光粉為高純度白色粉末，是玻璃、水鉆、水晶、金屬、各種石材系列精拋納米材料。該產(chǎn)品具有以下優(yōu)越性能：1、晶相穩(wěn)定、硬度高、顆粒小且分布均勻；2、磨削力強(qiáng)、拋光快、光度亮、鏡面效果好；3、研磨效率高，拋光效果好，研磨效率遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于二氧化硅等軟質(zhì)磨料，表面光潔度優(yōu)于白剛玉的拋光效果，切削力強(qiáng)、出光快、能拋出均勻而明亮的興澤。規(guī)格:項(xiàng)目 指標(biāo)型 號 TWA 0.2 TWA 0.3 TWA 0.5外   觀 白色粉末 白色粉末 白色粉末晶 型 a相 α相 α相含 量﹪≥ 99.9% 99.9% 99.9%中位粒徑 D50 0.2um 0.3um 0.5um用途1、人造寶石、鋯石、玻璃、天然寶石、玉石、翡翠、瑪瑙、等振動拋光（機(jī)器拋光、滾動拋光）、手動拋光（研磨拋光）等。2、鋁材、銅材、不銹鋼、石材、玻璃、墻地磚等研磨拋光。3、金屬表面拋光。4、拋光條、拋光漿、油漆表面、亞克力、不銹鋼鏡面、非鐵金屬、玉石，大理石、花岡巖、水晶、光學(xué)玻璃的表面拋光。5、汽車油漆打磨拋光，手機(jī)外殼油漆拋光等。用量推薦用量為1～20％，使用者應(yīng)根據(jù)不同體系經(jīng)過試驗(yàn)決定*佳添加量。包裝20公斤/每箱（內(nèi)襯PE塑料袋）注意1.請不要浸水。2.請不要用濕手觸摸。3.請佩戴防塵護(hù)罩、安全眼鏡、防護(hù)手套。4.請不要漏出，漏出時請即時清掃干凈。                      中晶微米級氧化鋁拋光粉（精拋）.【產(chǎn)品性能】本公司生產(chǎn)的TWA-1、TWA-2、TWA-3、TWA-5、TWA-9、TWA-12、TWA15氧化鋁產(chǎn)品，采用獨(dú)特的生產(chǎn)工藝，利用國內(nèi)外先進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備，通過嚴(yán)謹(jǐn)?shù)纳a(chǎn)流程制作而成。該產(chǎn)品具有以下優(yōu)越性能：●晶相穩(wěn)定、硬度高、顆粒小且分布均勻；●磨削力強(qiáng)、拋光快、光度亮、鏡面效果好；●研磨效率高，拋光效果好，研磨效率遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于二氧化硅等軟質(zhì)磨料，表面光潔度優(yōu)于白剛玉的拋光效果，切削力強(qiáng)、出光快                    產(chǎn)品粒度分布 微米（μm） 規(guī)格型號  平均粒度（D50值) 粒度目數(shù)（＃） 晶型 含量%> 外觀TWA1 1.0±0.2 8000＃ α相 99.62% 白色粉末TWA2 2.2±0.4 6000＃ α相 99.62% 白色粉末TWA3 3.1±0.4 4000＃ α相 99.62% 白色粉末TWA5 4.7±0.5 3000＃ α相 99.62% 白色粉末TWA9 6.4±0.6 2000＃ α相 99.62% 白色粉末TWA GF1 7.0±0.6 2200＃ α相 99.62% 白色粉末TWA12 8.4±o.6 1500＃ α相 99.62% 白色粉末TWA15 10.5±1.5 800＃ α相 99.62% 白色粉末【適用范圍及建議】 ①人造寶石、鋯石、玻璃、天然寶石、玉石、翡翠、瑪瑙、等振動拋光（機(jī)器拋光、滾動拋光）、手動拋光（研磨拋光）等。②鋁材、銅材、不銹鋼、石材、玻璃、墻地磚等研磨拋光。③金屬表面拋光。

【產(chǎn)品型號】ZJ-200系列氧化鋁拋光液【應(yīng)用領(lǐng)域】不銹鋼、鋁合金等金屬材料的拋光?！井a(chǎn)品特色】顆粒分散性好，有效避免了拋光過程中由于顆粒團(tuán)聚導(dǎo)致的工件表面劃傷；顆粒粒徑分布適中，**程度提升拋光速度的同時降低微劃傷的概率，可以提高拋光良率；運(yùn)用拋光液中的化學(xué)新作用，提高拋光速度，改善拋光表面的質(zhì)量；低VOC配方，使用過程避免粉塵產(chǎn)生，關(guān)注環(huán)保和人體健康安全。【物化指標(biāo)】【使用說明】產(chǎn)品久置會有分層、沉淀，均屬正常物理現(xiàn)象，使用前請攪拌均勻；使用過程中保持持續(xù)攪拌，可保證穩(wěn)定的研磨效率；根據(jù)工藝要求進(jìn)行一定的稀釋，一般建議1:1至1:3?！景b】標(biāo)準(zhǔn)包裝：25 kg /桶，250 kg/桶。也可根據(jù)客戶要求進(jìn)行包裝。

平板狀氧化鋁微粉  該研磨拋光微粉是以徳國進(jìn)口工業(yè)氧化鋁粉為主要原料,采用特殊礦化劑、高溫控制晶粒形狀及大小,經(jīng)特殊處理和嚴(yán)顆粒呈獨(dú)特的平板狀結(jié)構(gòu),硬度高達(dá)莫氏九級,磨削力強(qiáng),不易產(chǎn)生劃痕,可得到**率、高精度的被加工表面,有特殊設(shè)計的粒度分布,質(zhì)量和日本FUJIMI公司相當(dāng)。2、平板型氧化鋁研磨拋光微粉的特點(diǎn)1）平板型氧化鋁研磨拋光微粉與其它氧化鋁研磨拋光微粉的**區(qū)別是：片狀，硬度高，粒度均勻。2）特點(diǎn)為：A、形狀為平板狀，即片狀，使磨擦力增大，提高了磨削速度，提高了工效，因此可減少磨片機(jī)的數(shù)量、人工和磨削時間，如顯像管玻殼磨削工效能提高3-5倍；B、由于形狀為平板狀，故對于被磨對象（如半導(dǎo)體硅片等）來說不易劃傷，合格品率可提高10%至15%，如半導(dǎo)體硅片，其合格品率一般能達(dá)到99%以上；C、由于硬度比普通氧化鋁研磨拋光微粉高，故用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要少，如果磨同樣數(shù)量的產(chǎn)品，其用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要節(jié)約40%至50%；D、與國外同類產(chǎn)品相比，質(zhì)量達(dá)到或超過國外同類產(chǎn)品，品質(zhì)已達(dá)到國際標(biāo)準(zhǔn)，但產(chǎn)品價格只有國外同類產(chǎn)品的50%；E、由于平板型氧化鋁研磨拋光微粉的優(yōu)良性能，故加工的產(chǎn)品合格品率高，質(zhì)量穩(wěn)定，生產(chǎn)成本只有原來的50%-60%。（具體數(shù)據(jù)可見用戶報告）3、片狀氧化鋁是以工業(yè)氧化鋁為原料，添加復(fù)合礦化劑，經(jīng)過高溫煅燒而成。晶體形貌為具有一定厚度的片狀備用于以下方面的研磨拋光磨料，平板型氧化鋁研磨拋光微粉的用途:1）電子行業(yè): 單晶硅片、壓電石英晶體、化合物半導(dǎo)體的研拋。2）玻璃行業(yè): 硬質(zhì)玻璃和顯象管玻殼的加工。3）涂附行業(yè): 特種涂料和等離子噴涂的填充劑。4）金屬和陶瓷加工業(yè)。三, 平板狀(片狀)氧化鋁研磨微粉(AL2O3)性能指  平均粒度（D50值）（由Coulter Counter測試)規(guī)格型號  平均粒度（D50值）（由Coulter Counter測試）粒度       目數(shù)       （＃)TWA0.8       0.8       10000#TWA1          1.0       8000＃TWA2          2.2       6000＃TWA3          3.1       4000＃TWA5          4.7       3000＃TWA9          6.4       2000＃TWA GF1     7.0      2200＃TWA12         8.4      1500＃TWA15        10.5      800＃TWA20        14.5      700＃TWA25         17.4     700＃TWA30        21.5      600＃TWA35        25.5      500 #TWA45        36.0      360＃TWA50        42.5      320＃TWA55        50.0      280＃     TWA6         63.0      240＃      注明(產(chǎn)品粒度以客戶使用要求標(biāo)準(zhǔn)為準(zhǔn))      粒度分布表以TWA12為例）標(biāo)準(zhǔn)粒徑實(shí)測數(shù)值（um)規(guī)格（um)**粒徑（dv-0值）16.9<23累積高度3%點(diǎn)的粒徑（dv-3值）13.63<19累積高度3%點(diǎn)的粒徑（dv-3值）8.57.8-9累積高度94%點(diǎn)的粒徑（dv-94值）4.44≥4化學(xué)成分化學(xué)成份分析值（%）規(guī)格值（%）AL2O3  99.38    99.3SiNa2O2 0.27   0.05Na2O  0.35       0.55Fe2O3 0.03       0.10物理指標(biāo)：化學(xué)名稱  外觀  比重         莫氏硬度A-AL2O3  白色 3.95-3.98g/cm3    9.0包裝外貌:包裝材料內(nèi)襯雙層塑料袋，紙箱外包裝包裝重量20KG/箱

 煅燒α氧化鋁研磨微粉煅燒氧化鋁粉采用一級工業(yè)氧化鋁、氫氧化鋁外加添加劑技術(shù)煅燒轉(zhuǎn)相后，再采用先進(jìn)的粉磨技術(shù)及工藝，生產(chǎn)出的活性氧化鋁微粉，其特點(diǎn)是活性大，粒度細(xì)。特別適用于定型制品和耐火澆注料、可塑料、修補(bǔ)料、噴補(bǔ)料、涂抹料等不定形耐火材料，對改善耐火材料的高溫強(qiáng)度、提高材料的抗侵蝕性能具有很強(qiáng)的作用。煅燒氧化鋁粉粉具有較高的化學(xué)穩(wěn)定性，純度高、真比重大、酌減小、絕緣性能好，耐酸耐堿機(jī)械強(qiáng)度大，耐磨耐沖擊等特點(diǎn)具有熔點(diǎn)高、熱穩(wěn)定性好、硬度大、耐磨性好、機(jī)械強(qiáng)度大高、電絕緣性好、耐腐蝕等特點(diǎn)，廣泛用于定形、不定形耐火材料、耐火澆注料結(jié)合劑、耐磨磨具、高純耐火纖維、特種陶瓷、電子陶瓷等。煅燒氧化鋁粉技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)：.指標(biāo)名稱Al2O3SiO2Fe2O3Na2O灼減α-Al2O3有效密度單位% %  % % %  %    R H技術(shù)要求≥99.5≤0.02≤0.02≤0.3≤0.1≥94.5   3.93

ZJ-200系列鋅合金氧化鋁鏡面拋光液鋅合金拋光液具有效率高、效果穩(wěn)定等特點(diǎn)；專門針對鋁合金材質(zhì)鏡面拋光工序(如1000系列工業(yè)純鋁、2000系列Al-Cu,Al-Cu-Mn合金、 3000系列Al-Mn合金、4000系列Al- Si合金、5000系列Al-Si合金、6000系列Al-Si合金、7000系列Al-Mg-Si-Cu合金、8000系列型號)，并根據(jù)材料型號的不 同配套有相應(yīng)的不銹鋼拋光液。作業(yè)后能夠?qū)崿F(xiàn)很高標(biāo)準(zhǔn)的平行度和**鏡面效果?！　′\合金氧化鋁鏡面拋光液的組分：拋光粉、水、酸、無機(jī)鹽、其他。適合鋁合金等材質(zhì)工件鏡面拋光加工用。　   一般來說，工件要實(shí)現(xiàn)鏡面效果，基本上都是要經(jīng)過粗拋、精拋和拋光這三道工序的。如果工件本身具有一定的精度，則可以省略粗拋工序。　　粗拋：去除毛坯的大部分余量，**所達(dá)到的效果要保持到大致的幾何形狀與粗糙度?！　【珤仯捍謷佂瓿珊蟮南乱粋€工序就是精拋，結(jié)果是能夠保持*精確的幾何形狀以及精細(xì)的裂紋深度。　　拋光：工件通過了粗拋、精拋工藝后，進(jìn)入拋光工序;也是*終實(shí)現(xiàn)光學(xué)表面層實(shí)現(xiàn)的**一個部分，前提下前兩者必須要為**一步拋光做好準(zhǔn)備，使得在整個拋光過程當(dāng)中，盡量去除粗拋與精拋所留下的破環(huán)層，實(shí)現(xiàn)光學(xué)表面*理想鏡面效果?！　∮捎谶@三種工序不同，所用的研磨液也不一樣　　1.粗拋選擇的耗材是：粗拋液，粗磨盤(鑄鐵盤)。這兩種耗材的成分里面，主成分的材質(zhì)稍微較粗，要求硬度較高，顆粒度較大，這樣才有較好的切削力?！　?.精拋選擇的耗材是：精拋液，精磨盤(錫盤)。這兩種耗材相對要求要高一點(diǎn)，需要材質(zhì)更為精細(xì)，顆粒非常小的原材料生產(chǎn)?！　?.拋光選擇的耗材是：拋光液，拋光盤(銅盤)。這個耗材要求**，對精細(xì)度有著非常嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)。一般是采用納米級顆粒度的原材料配置液體。也通常用的是微米級的金屬顆粒鍛造而成?！　∵x擇中研拋光液，保證拋光效果

產(chǎn)品描述阿爾法氧化鋁微粉 (white fused alumina)  TWA0.5、TWA1.5、TWA2、TWA3.5、TWA5、TWA7、TWA10、TWA14、TWA20、TWA28、TWA40、TWA63阿爾法氧化鋁微粉是以優(yōu)質(zhì)的鋁氧粉為原料，經(jīng)電熔提煉結(jié)晶而成，具有硬度高，韌性稍低，純度高，自銳性優(yōu)，磨削力強(qiáng)，發(fā)熱量小，效率高，耐酸堿腐蝕，耐高溫，熱穩(wěn)定性好等特點(diǎn)。它不但是**的磨料磨具材料，還是**研磨，拋光材料等，用它加工制成的磨具，適用磨削高碳鋼，高速鋼及各種不銹鋼。它還廣泛用于精密鑄造，鋼鐵耐火，化工耐火，95電池，裝飾瓷等特種陶瓷及日常生活用瓷，以及軍工，電子等高科技行業(yè)。粒度(國標(biāo))        基本粒尺寸(um)TWA63             63-50umTWA50             50-40umTWA40             28-40umTWA28             20-28umTWA20             14-20umTWA14             10-14umTWA10             7-10umTWA7              5-7umFTWA5            3.5-5umTWA3.5         2.5-3.5umTWA2.5         1.5-2.5umTWA1.5         0.5-1.5umTWA0.5         0-0.5umAl2O3≥99.00%Fe2O3≤0.07%SiO2≤/Cao≤0.03%MgO≤0.02%K2O≤0.02%Na2O≤0.40%堆積密度1.75-1.95g/cm3顆粒密度≥3.90g/cm3 min莫氏硬度≥9顯微硬度21600-22600kg/mm3用途其磨具適用于磨削高碳鋼、高速鋼和淬火鋼等硬度較硬、抗張強(qiáng)度較大的材料的磨削。等。還可作為研磨拋光材料；精密鑄造、噴涂材料，化工觸媒載體，特種陶瓷、砂輪，煉鋼，**耐火材料等。它的特點(diǎn)是切削力較強(qiáng)，化學(xué)穩(wěn)定性好，具有很好的絕緣性

品介紹規(guī)格參數(shù)【產(chǎn)品型號} ZJ-300   系列氧化鋁拋光液【應(yīng)用領(lǐng)域】不銹鋼、鋁合金等金屬材料的拋光?！井a(chǎn)品特色】顆粒分散性好，有效避免了拋光過程中由于顆粒團(tuán)聚導(dǎo)致的工件表面劃傷；顆粒粒徑分布適中，**程度提升拋光速度的同時降低微劃傷的概率，可以提高拋光良率；運(yùn)用拋光液中的化學(xué)新作用，提高拋光速度，改善拋光表面的質(zhì)量；低VOC配方，使用過程避免粉塵產(chǎn)生，關(guān)注環(huán)保和人體健康安全?！臼褂谜f明】產(chǎn)品久置會有分層、沉淀，均屬正常物理現(xiàn)象，使用前請攪拌均勻；使用過程中保持持續(xù)攪拌，可保證穩(wěn)定的研磨效率；根據(jù)工藝要求進(jìn)行一定的稀釋，一般建議1:1至1:3?！景b】標(biāo)準(zhǔn)包裝：25 kg /桶，250 kg/桶。也可根據(jù)客戶要求進(jìn)行包裝?！　′X合金氧化鋁鏡面拋光液：不 銹鋼拋光液具有效率高、效果穩(wěn)定等特點(diǎn)；專門針對鋁合金材質(zhì)鏡面拋光工序(如1000系列工業(yè)純鋁、2000系列Al-Cu,Al-Cu-Mn合金、 3000系列Al-Mn合金、4000系列Al- Si合金、5000系列Al-Si合金、6000系列Al-Si合金、7000系列Al-Mg-Si-Cu合金、8000系列型號)，并根據(jù)材料型號的不 同配套有相應(yīng)的不銹鋼拋光液。作業(yè)后能夠?qū)崿F(xiàn)很高標(biāo)準(zhǔn)的平行度和**鏡面效果。　　鋁合金鏡面拋光液的組分：拋光粉、水、酸、無機(jī)鹽、其他。適合鋁合金等材質(zhì)工件鏡面拋光加工用?！?  一般來說，工件要實(shí)現(xiàn)鏡面效果，基本上都是要經(jīng)過粗拋、精拋和拋光這三道工序的。如果工件本身具有一定的精度，則可以省略粗拋工序?！　〈謷仯喝コ鞯拇蟛糠钟嗔?，**所達(dá)到的效果要保持到大致的幾何形狀與粗糙度。　　精拋：粗拋完成后的下一個工序就是精拋，結(jié)果是能夠保持*精確的幾何形狀以及精細(xì)的裂紋深度?！　伖猓汗ぜㄟ^了粗拋、精拋工藝后，進(jìn)入拋光工序;也是*終實(shí)現(xiàn)光學(xué)表面層實(shí)現(xiàn)的**一個部分，前提下前兩者必須要為**一步拋光做好準(zhǔn)備，使得在整個拋光過程當(dāng)中，盡量去除粗拋與精拋所留下的破環(huán)層，實(shí)現(xiàn)光學(xué)表面*理想鏡面效果?！　∮捎谶@三種工序不同，所用的研磨液也不一樣　　1.粗拋選擇的耗材是：粗拋液，粗磨盤(鑄鐵盤)。這兩種耗材的成分里面，主成分的材質(zhì)稍微較粗，要求硬度較高，顆粒度較大，這樣才有較好的切削力?！　?.精拋選擇的耗材是：精拋液，精磨盤(錫盤)。這兩種耗材相對要求要高一點(diǎn)，需要材質(zhì)更為精細(xì)，顆粒非常小的原材料生產(chǎn)?！　?.拋光選擇的耗材是：拋光液，拋光盤(銅盤)。這個耗材要求**，對精細(xì)度有著非常嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)。一般是采用納米級顆粒度的原材料配置液體。也通常用的是微米級的金屬顆粒鍛造而成。　　選擇中晶，保證拋光效果　   一般來說，研磨液都是以客戶工件的材質(zhì)和要達(dá)到的效果來配置的。在交貨前，中晶工程師會依據(jù)客戶提供的工件試樣，除了要達(dá)到客戶拋光要求，還要實(shí)現(xiàn)高良率、**率、低成本原則。交貨后，提供詳細(xì)的使用方法，并有工程師上門指導(dǎo)，保證拋光效果。

片狀氧化鋁拋光粉采用高純氧化鋁作為原料, 在嚴(yán)格粒度分布控制下, *小粒度能夠達(dá)到0.3um。晶體呈四邊菱形狀、 粒度分布范圍窄、不易產(chǎn)生劃痕、磨削力強(qiáng)。用途：1) 單晶硅片的研磨、拋光。2) 水晶鏡片的研磨拋光。3) 手機(jī)外殼等鋁合金材料及不銹鋼材料的拋光。4) 不銹鋼餐具及其它裝飾材料的拋光。5) 等離子噴涂6)光學(xué)玻璃, 激光晶體, 光學(xué)晶體, 光學(xué)塑料, 半導(dǎo)體, 金屬合金, 陶瓷, 等。氧化鋁拋光粉規(guī)格：顏色：白色純度：≥ 96%菱形氧化鋁研磨微粉(AL2O3)性能指  平均粒度（D50值）（由Coulter Counter測試)          產(chǎn)品粒度分布 微米（μm）規(guī)格型號  平均粒度（D50值）（由Coulter Counter測試）粒度目數(shù)（＃)TWA-3      3.1       4000＃TWA-5      4.7       3000＃TWA-  7    7.0       2000＃TWA- 10     9.0       4000#      注明(產(chǎn)品粒度以客戶使用要求標(biāo)準(zhǔn)為準(zhǔn))      粒度分布表以TWA10為例）標(biāo)準(zhǔn)粒徑實(shí)測數(shù)值（um)規(guī)格（um)**粒徑（dv-0值）16.9<23累積高度3%點(diǎn)的粒徑（dv-3值）16.0     <19累積高度3%點(diǎn)的粒徑（dv-3值）8.5       7.8-9累積高度94%點(diǎn)的粒徑（dv-94值）4.44    ≥4化學(xué)成分化學(xué)成份分析值（%）規(guī)格值（%）AL2O399.3899.3SiNa2O20.0270.05Na2O0.350.55Fe2O30.030.10物理指標(biāo)：化學(xué)名稱外觀比重莫氏硬度A-AL2O3白色3.95-3.98g/cm39.0包裝外貌:包裝材料內(nèi)襯雙層塑料袋，紙箱外包裝包裝重量20KG/箱